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ESCO-TDS1200Ⅱ IR
赤外線加熱型昇温脱離分析装置
薄膜からのアウトガス評価の業界標準。
超高真空環境（10-7Pa以下）において、CVD膜やALD膜を赤外線加熱し、脱離する分子を四重極質量分析計（QMS）で高感度にリアルタイム検出。 1分子層（monolayer）相当の微量な水素・水を高感度に検出。
定量も可能です。
NEW ESCO-TDS1200Ⅱ IR BGM
バンドギャップモニタ搭載昇温脱離分析装置
シリコン温度の高精度計測を実現。
バンドギャップモニタによりウェハ表面温度を光学的に直接決定。
高速昇温時も高い制御性を維持します。
精密な脱離温度評価に最適な上位モデル。
ESCO-TDS1200Ⅱ IR PKG（TDS連結型）
気密封止パッケージ内ガス分析装置
TDS分析と気密封止パッケージの残留ガス分析(RGA/IGA/IVA)に対応。
気密封止パッケージの残留ガス分析(RGA/IGA/IVA)と薄膜材料のTDS分析を一台で実現する複合装置。レーザーダイオードﾞや水晶デバイス、MEMS等の信頼性を左右するパッケージ内部のガスを精密に定性・定量。フロントエンドからバックエンドまで一貫した評価が可能です。
NEW ESCO-TDS600 IR H2
昇温脱離水素分析装置
質量分析計方式昇温脱離水素分析装置（水素脆化評価モデル）。
質量分析計方式(真空型)の定量性を維持しながらガスクロス方式並みの手軽さを兼備。試料の真空搬送を排除し簡単操作を実現。
製造現場の品質管理から研究開発まで強力にサポート。
開発中 ESCO-TDS-100 Cryo H2
低温鋼中拡散性水素分析装置
マイナス100℃からの低速度昇温（1℃/min）に対応。
金属材料の格子欠陥（粒界、転位、空孔など）に捕捉された水素の分離検出が可能。霜付着対策を徹底し、高度な水素トラップサイト解析を強力サポートします。
ESCO-TDS1700 IH
高周波加熱型昇温脱離分析装置
1700℃までの超高温域における材料評価を
実現。
高周波誘導加熱（IH）を搭載し、最高1700℃までの超高温測定に対応。高融点金属、セラミックス、炭素などの高温材料（耐熱材料）の評価に最適です。
特注装置の開発・製作
TDSで培った技術を応用し、多種多様な特注装置の受託開発を承っております。多くは守秘義務により非公開ですが、一例として公開可能な開発事例をご紹介します。
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